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Ausbau unserer Expertise in High Purity Cleaning

In seiner neuen Funktion als Business Development Manager HPC verfolgt Martin Leuenberger die aktuellen Entwicklungen in der Reinigung von Bauteilen aus der Hochvakuum-Industrie und erarbeitet zusammen mit unseren Kunden, Partnern und internen Spezialisten Lösungen für individuelle Reinigungsprozesse und deren Integration in den Fertigungsprozess.

Lesezeit: 13min.

Borer Chemie

Borer Chemie,

Ausbau unserer Expertise in High Purity Cleaning

Was sind die aktuellen Trends und Herausforderungen in Bezug auf High-Purity-Reinigungslösungen in der Semiconductor-Industrie?

Die stetig steigenden Reinheitsanforderungen, die auf der Möglichkeit zur Oberflächenmessung basieren, sind eine herausfordernde Entwicklung im Bereich der Reinigungsmedien und ihrer Rohstoffe. Mit der zunehmenden Präzision der Oberflächenanalyse verschärfen sich auch die Reinheitsstandards entsprechend, was potenziell Auswirkungen auf die Leistungsfähigkeit und das Wertversprechen der aktuellen Reinigungsmedien haben kann.

Die Reinigungstrends konzentrieren sich verstärkt auf die Wichtigkeit und das Verständnis von Sauberkeit, die Überwachung und Bewahrung sauberer Produkte. Dabei wird der Fokus zunehmend auf die gesamte Wertschöpfungskette und ihre individuellen Prozessschritte gelegt.

Ein weiterer Trend betrifft die Herstellungskette. Die OEMs fokussieren sich verstärkt auf die gesamte Herstellungskette und greifen ein, wenn es notwendig ist, um ihre endgültigen Reinheitsanforderungen und Qualitätskriterien zu erfüllen.

Mit welchen konkreten Massnahmen reagiert Borer Chemie auf diese Trends und Herausforderungen?

Einerseits haben wir unser Produktsortiment ausgebaut. Nebst Standardreinigern zur Erreichung von Grad 2 umfasst unser Produktportfolio drei Reiniger, welche speziell für Bauteile mit höchsten Reinheitsanforderungen entwickelt wurden: deconex® HPC 1309, deconex® HPC 1202 und deconex® HPC 2602. Das macht sie besonders attraktiv für die Semiconductor-Industrie.

Andererseits entsprechen unsere Rohstoffe den höchsten Auswahlkriterien, vergleichbar mit denen der Pharmaindustrie oder der Reinigung und Wiederaufbereitung von medizinischen Instrumenten in Krankenhäusern. 

Die oberste Priorität liegt auf einer rückstandsfreien Reinigung, was auch den Produkten unserer HPC-Produktlinie zugutekommt. Dies gewährleistet, dass trotz der Verwendung von Elementen wie Phosphor (P) oder Silizium (Si) bei der abschliessenden Reinigung keine Rückstände nachweisbar sind.

Kannst du die einzigartigen Verkaufsargumente (USPs) der deconex® HPC-Produktelinie genauer erläutern?

Annex_Blogbeitrag_Interview_MLE_Portrait_DE33Wir haben unsere HPC-Produkte einer strengen Leistungsprüfung unterzogen, indem wir ihre Reinigungsleistung mit definierten Worst-Case-Substraten von OEMs in unserem hauseigenen Technikum getestet haben. Die gereinigten Substrate wurden anschliessend zu akkreditierten und renommierten Laboren geschickt, wo sie gemäss den Spezifikationen der OEMs auf ihre Sauberkeit untersucht wurden. 

Aus diesem Projekt resultierte ein Technisches Projektdokument (TPS), welches das gesamte Projekt und die erzielte Sauberkeit der durchgeführten Reinigung darstellt. 

Welche Nutzen ergeben sich daraus für die Kunden der Borer Chemie?

Einerseits schaffen diese Ergebnisse und Erkenntnisse Vertrauen, vermeiden «Trial-and-Error»-Situationen und konzentrieren sich auf die Kausalität des Wertversprechens durch die Umsetzung des resultierenden deconex® HPC-Standards.

Ausserdem wissen unsere Kunden bereits vor Projektstart, welche Leistung sie von unseren deconex® Produkten erwarten können. Darüber hinaus schaffen wir zusätzlichen Mehrwert durch die Minimierung der Projektaufwände, was sich positiv auf die "time to market" auswirkt. 

Welche zusätzlichen Vorteile oder Dienstleistungen bietet die Borer Chemie ihren Kunden zusätzlich zu den deconex® Reinigungsprodukten?

Unser einzigartiges Angebot umfasst unser hauseigenes Technikum, das über 13 verschiedene Reinigungsanlagen mit individuellen Anwendungen für eine Vielzahl von Einsatzgebieten verfügt. Kunden haben die Möglichkeit, unabhängige Untersuchungen durchzuführen, Anlagen zu evaluieren und erste Reinigungsversuche durchzuführen, selbst wenn sie noch nicht über eine Reinigungsanlage in ihrem eigenen Unternehmen verfügen. Sie erhalten die Chance, eine individuelle Prozessentwicklung für ihre finale Reinigung vorzunehmen.

Durch die interne Projektumsetzung des "deconex® HPC-Standards" haben wir ein präzises Verständnis für das Leistungspotenzial unserer Reinigungschemie entwickelt. Das für dieses Projekt erstellte Technische Projektdokument (TPS) stellen wir unseren Kunden kostenlos zur Verfügung, um einen Mehrwert bei der Gestaltung der Projektrealisierung für die Prozessvalidierung sowie bei der Festlegung der Prozessabläufe und der angestrebten Ergebnisse zu schaffen.

Wie siehst und bewertest du die zukünftige Entwicklung der Halbleiterindustrie und welche Rolle spielt die High-Purity-Reinigung dabei?

Beim Blick auf den Markt fällt auf, dass nicht nur in den bisher bekannten Regionen massiv in die Halbleiterindustrie invesitiert wird. Auch Länder wie Indien, die USA und Italien investieren aktuell verstärkt in diesem Segment. Gleichzeitig schreitet die Technologie unaufhaltsam voran, wodurch Microchips kontinuierlich kleiner und leistungsfähiger werden. 

Diese Entwicklung ist noch lange nicht abgeschlossen, und die Anforderungen an die Reinheit und an die High-Purity-Reinigung werden voraussichtlich weiter steigen.

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Sie definieren die Reinigungsanforderungen, wir liefern die Lösung
Die einzigartigen Produkte unserer deconex® HPC-Linie wurden speziell für die Anforderungen anspruchsvoller Anwendungen entwickelt. Mit unseren Produkten erzielen Sie die gewünschten Reinheitsgrade 1 und 2 der individuellen geforderten Spezifikationen.

Erfahren Sie mehr über unsere Reinigungslinie deconex® HPC, zu der auch das neue Konzentrat deconex® HPC 2602 zur Entfernung von Flecken, Oxidschichten und Anlauffarben gehört.

Kontaktieren Sie unseren HPC-Spezialisten für mehr Informationen.

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